CNIPA.AI
CNIPA.AI
返回博客
教程Fri Apr 17 2026 00:00:00 GMT+0000 (Coordinated Universal Time)15 分钟阅读

韩国专利实务完全指南:KIPO格式体系、분리출원与2025年优先审查扩大详解

CNIPA.AI Team

技术博客

韩国专利体系与日本同属东亚段落编号体系——强制【0001】编号、全角방括号章节标题、禁止多项从属的多项从属——从结构上看,两套体系几乎是镜像关系。但这种相似性正是最危险的陷阱:相似的框架包裹着完全不同的语言、独特的制度,以及不能照搬的实务规则。

2022年,韩国新设分离出愿(분리출원)制度,为被驳回案件提供了全新的救济路径;2025年2月,KIPO将优先审查对象扩大至人工智能(AI)和生物(BIO)领域。这些变化使得韩国市场对科技类专利申请人的吸引力大幅提升。

本文将系统讲解韩国专利申请文件构成、说明书结构、权利要求撰写要点、特有程序制度,以及韩日中三国实务差异,为国际代理人提供可直接参考的实务指南。


一、韩国专利申请文件构成

必需的4类文件

向知识产权局(KIPO / 특허청)提交的必需文件如下:

序号文件名(韩文)中文名称是否必需特殊备注
1특허출원서专利申请书必需含申请人、代理人、发明名称、优先权信息
2명세서说明书必需含【发明的说明】和【청구범위】两大部分
3요약서摘要书必需独立文件,不是说明书的一部分
4도면附图特허:必要时才附;실용신안:必须实用新案必须有附图

韩国与中国、日本的重要区别在于:说明书(명세서)内部同时包含发明说明正文和권리요求书(청구범위)两大部分,而中国将权利要求书作为独立文件提交,韩国则将两者合并在同一명세서文件中。

변리사的典型撰写顺序

韩国变理士(변리사)普遍采用与日本弁理士相似的"权利要求先行"策略:

发明相谈 → 선행기술 조사(现有技术调查)→ 청구범위 초稿(权利要求初稿)→ 说明书主体 → 附图 → 摘要书 → 대표도 선정(代表图选定)→ 形式审查 → 提交


二、说明书结构:韩语章节标题与全角方括号

标准章节体系

韩国명세서按以下固定顺序组织,必须使用韩语章节名和全角방括号【】:

【발명의 설명】              ← 发明的说明(整体标题)
  【발명의 명칭】            ← 发明名称
  【기술분야】               ← 技术领域
  【배경기술】               ← 背景技术
  【선행기술문헌】(可选)    ← 现有技术文献
    【특허문헌】              ← 专利文献
    【비특허문헌】            ← 非专利文献
  【발명의 내용】            ← 发明的内容
    【해결하고자 하는 과제】  ← 所要解决的课题
    【과제의 해결 수단】      ← 课题的解决手段
    【발명의 효과】           ← 发明的效果
  【도면의 간단한 설명】      ← 附图的简要说明
  【발명을 실시하기 위한 구체적인 내용】 ← 实施发明的具体内容
  【부호의 설명】(可选)     ← 附图标记说明

【청구범위】                  ← 权利要求书
  【청구항 1】
  【청구항 2】
  ...

与日本章节体系的逐项对比:

日本(JPO)韩国(KIPO)关键差异
【技術分野】【기술분야】语言不同,结构相同
【背景技術】【배경기술】语言不同,结构相同
【発明を実施するための形態】【발명을 실시하기 위한 구체적인 내용】韩国多"구체적인 내용"(具体内容)
【課題を解決するための手段】【과제의 해결 수단】一对一对应,语言不同
【符号の説明】【부호의 설명】格式标号在前,说明文在后

关键陷阱:虽然结构几乎一对一映射,但必须用韩语章节名,不能照搬日语汉字词。例如,不能将「【技術分野】」直接挪用到韩国申请——即使是汉字词,KIPO要求的是韩文【기술분야】

发明名称的双语格式

韩国发明名称有独特的双语并记要求:

【발명의 명칭】
인공지능 기반 영상 처리 방법 {AI-BASED IMAGE PROCESSING METHOD}
  • 韩语名称在前
  • 英文名称大写,用花括号(不是圆括号)并记于后
  • 国际公开时使用英文名称

技术术语的并记规则

韩国说明书要求技术术语在括号内并记汉字或原语(英语),以确保发明描述清晰无歧义:

  • 반도체(半導體) — 汉字并记
  • 트랜지스터(transistor) — 英文并记
  • 外来语按国立국어원外来语表记法转写

若不并记导致发明不明确,可能被KIPO驳回。这是日本实务所没有的强制要求——日本作为汉字圈国家,汉字词本身已经足够清晰。

段落编号【0001】强制要求

韩国段落编号格式与日本完全相同:【0001】,4位阿拉伯数字,全角방括号

从【기술분야】起,到【서열목록 자유텍스트】(生物序列专利)结束,每段都需标识别号。电子申请系统自动赋予编号,纸质申请由KIPO电子化时补赋。

与中国([0001]半角括号)和美国(通常不强制段落编号)不同,韩日两国均使用全角【】,是少数坚持这一格式的专利局。


三、权利要求书(청구범위):韩语语序与过渡短语

基本格式

【청구범위】
【청구항 1】
  A와,
  B와,
  C를 포함하는,
  반도체 장치.

【청구항 2】
  제1항에 있어서,
  A는 X인 것을 특징으로 하는,
  반도체 장치.

关键格式要素:

  • 每个权项以【청구항 N】标记(韩语"청구항"即"权利要求项")
  • 独立项(독립항)在前,从属项(종속항)必须在其引用项之后
  • 权项结尾为名词形:装置类用~장치~시스템,方法类用~방법~프로세스

过渡短语(韩语)

韩语短语中文含义英文对应使用场景
~을/를 포함하는包含……comprising最常用,开放式
~으로 구성되는由……构成consisting of封闭式,新颖性回避
~를 구비하는具备……having装置类常见
~하는 것을 특징으로 하는其特征在于……characterized in that从属项常见
제N항에 있어서在权项N中……In claim N从属项必用开头

方法权利要求的步骤描述:

【청구항 5】
  A를 수행하는 단계와,
  B를 수행하는 단계를 포함하는,
  제조 방법.

韩语语序的特殊性:主语置于句尾

韩语权利要求有一个对汉语和英语母语者极不直觉的语法特点:主语(发明名称)置于权项最末尾,而不是开头。

【청구항 1】
  A와,      ← 技术特征(组成部分)
  B와,      ← 技术特征
  C를 포함하는,  ← 过渡短语
  반도체 장치.  ← 主语(发明名称)放在最后

这与汉语"一种包含A、B、C的半导体装置"的语序完全相反。在将英文或中文权利要求翻译成韩文时,这是最容易出现语法错误的地方。

多项从属禁止规则

韩国与日本采用完全相同的多项从属限制——禁止"多项的多项":

合法示例:

【청구항 3】 제1항 또는 제2항에 있어서, ... 장치.    // 多项从属:合法
【청구항 4】 제3항에 있어서, ... 장치.               // 单项从属于多项从属:合法

非法示例:

【청구항 3】 제1항 또는 제2항에 있어서, ... 장치.
【청구항 4】 제3항 또는 제2항에 있어서, ... 장치.   // 违法!청구항3已是多项从属,不能再被多项引用

四、摘要书与代表图:独立文件与必选指定

摘要书(요약서)结构

韩国摘要书是独立文件,不是说明书的一部分。结构按以下4段式组织:

  1. 技术领域:本发明属于……领域
  2. 所要解决的课题:为解决……问题
  3. 课题的解决手段:本发明通过……实现
  4. 效果:由此实现……效果

若引用图中技术要素,须在括号内写参考符号。禁止记载权利范围中的不明确效果或用途。

代表图(대표도)选择:KIPO独有要求

申请人在특허출원서中须单独指定一个图号作为代表图(대표도),用于国际公开时的代表图展示。

选择规则:

  • 只能选一幅(即使图号为도 1a도 1b,也只能选其一,如1b
  • 不写"Fig",仅填数字+字母(如1b,不写도 1b
  • 通常选最能体现发明核心的图,常为系统总览图或核心部件结构图

这是日本실용新案以外的专利体系中少有的"强制代表图"要求——美国、欧洲均无此硬性规定,中国也仅建议不强制。对于习惯US/CN实务的代理人,这是容易遗漏的步骤。

附图技术规范

  • 黑白线条图为原则(设计申请例外)
  • 每张图只含一个构成
  • 300 DPI以上分辨率
  • 附图标号在说明书和附图中必须一致
  • 【부호의 설명】格式:标号写在说明文之前
【부호의 설명】
10: 기판
20: 반도체층
30: 게이트 전극

五、韩国特有制度:分离出愿、优先审查与审查请求

审查请求制度(심사청구)

韩国同样实行"审查请求制度",2017年3月1日起,审查请求期限从5年缩短为3年(2017年3月1日之前的申请仍适用旧的5年期限)。

与日本相同:任何人都可在3年内提出审查请求;逾期未请求视为撤回(취하 간주);审查请求费独立于申请费。

分离出愿(분리출원):2022年新设的救济机制

这是韩国最具特色的制度之一,日本没有对应机制。

韩国특허법 제52조의2(2021年10月19日施行):申请人在收到심판원驳回最终决定后30日内,可提起분리출원(分离出愿),仅针对"潜在可允许权项"——即从被驳回的母案中切出审查员认为可能可授权的部分,作为独立申请继续审查。

분리출원与传统분割출원(分割出愿)的关键区别:

制度时机目的
분할출원(分割出愿)答辩期间、驳回通知应对期主动拆分申请,扩大保护
분리출원(分离出愿)심판院驳回最终决定后30日内救济被驳回案件中的可授权部分

分离出愿相当于给了申请人在终局驳回后的"第二次机会"——在整体申请被驳回时,不必放弃其中仍有价值的技术方案。对于权项覆盖面广、部分权项面临较大先前技术挑战的申请,这一机制提供了重要的战略弹性。

优先审查(우선심사):2025年大幅扩大适用范围

韩国优先审查(우선심사,특허법 제61조)效果显著:优先审查后约3个月内出审查意见,从申请到注册可在5个月内完成,远快于标准审查的12~18个月。

2025年2月19日起,优先审查对象大幅扩大,以下类别申请可申请优先审查:

  • 风险企业、技术革新型中小企业、职务发明奖励优秀企业
  • 碳中和绿色技术(氢、氨、新一代核能、电动汽车、新能源……)
  • 半导体、显示器、二次电池
  • 生物(BIO)、尖端机器人、人工智能(AI)(2025年2月19日新增)
  • 国家研发成果、特性化大学专利
  • 实施中或准备实施中的发明
  • PCT进入国家阶段的自用发明

对于在AI和生物技术领域布局的申请人而言,韩国2025年优先审查的扩大意味着可以在极短时间内获得权利确认,抢占市场保护先机。


六、실용신안 vs 특허:选择指南

比较项目特허(发明专利)실용신안(实用新型)
保护对象物品、方法、物质仅物品(形状、结构、组合)
技术高度需要"高度性"不需要高度性
进步性标准普通水平不可轻易发明仅"极其容易发明"才否决
附图要求必要时才附必须附图
保护期20年(自申请日起)10年(自申请日起)
审查方式实体审查实体审查(2006年后改制)
权项范围物品、方法、物质均可权项必须围绕物品结构撰写

重要提示:韩国实用新案自2006年起恢复实体审查制,这与日本实用新案(仅方式审查即可登记)有本质区别。选择실용신안并不能跳过实体审查,但进步性标准相对较低。

如果发明涉及方法或物质,必须选择특허——실용신안不保护方法类和物质类发明。


七、PCT国家阶段进入韩国:关键时限

时限说明
优先权日起31个月提交韩文译文的标准期限
优先权日起32个月可申请1个月延期(需在31个月前提出延期申请)
外国申请人必须通过韩国登记的변리사/律师提交

PCT进入国家阶段时,必须包括说明书、权利要求、摘要的完整韩文翻译。若PCT Article 19/34对权项有修改,需提交修改后版本的韩文翻译。


八、韩日中三国实务差异速查

格式体系对比

维度日本(JPO)韩国(KIPO)中国(CNIPA)
申请语言日语韩语中文
段落编号【0001】全角【0001】全角[0001]半角
章节标题格式【技術分野】汉字【기술분야】韩文"技术领域"无括号
发明名称双语{ENGLISH}{ENGLISH}仅中文
术语并记不需要强制汉字/英文并记不需要
摘要字数上限400字约150单词(无硬性字符限制)300字
代表图不强制强制指定一幅不强制
多项从属禁止禁止多项的多项禁止多项的多项允许
分割出愿时机答辩期间答辩期间答辩期间
类Continuation分割出愿分割+分离出愿仅分案
审查请求期限3年3年3年
实用新案审查仅方式审查实体审查(2006后)仅初步审查

韩国变리사看到他国工具时的常见反馈

工具来源韩国변리사的反馈
中国工具"段落号[0001]不对,韩国必须全角【0001】"
中国工具"章节标题必须是【기술분야】,不能用中文汉字"
美国工具"US没有段落号,韩国必须有"
美国工具"US的权项格式1./2.不对,韩国必须【청구항 1】"
美国工具"没有대표도选择,韩国申请必须指定代表图"
日本工具"日文章节名不能直接用,韩国必须用纯韩文"
日文工具"韩国要强制汉字/英文并记,日本工具没有这个检查"

九、韩国专利布局的战略思考

哪些申请应优先考虑韩国市场

韩国是全球前五大专利申请目的国,对以下领域的申请人具有特殊价值:

半导体与显示器:韩国是全球最大的半导体和OLED显示屏生产国,三星、SK海力士、LG等全球巨头均在此布局,竞争对手专利密度极高,必须同步申请。

电动汽车与二次电池:LG能源解决方案、三星SDI等二次电池领军企业的核心专利主战场在KIPO,相关供应链的保护也集中于此。

人工智能与软件:2025年优先审查扩大AI领域后,韩国成为AI专利的优先申请目的国之一,快速授权+强制代表图展示为AI专利提供了良好的可见度。

生物技术:2025年优先审查扩大BIO领域,结合韩国较低的进步性标准(相对欧洲),是生物技术专利的有利布局地。


实操清单:KR专利撰写提交前必查项

文件完整性

  • 特허출원서(专利申请书)已准备,含申请人、代理人、发明名称、优先权信息
  • 명세서(说明书)含【발명의 설명】和【청구범위】两大部分
  • 요약서(摘要书)作为独立文件
  • 실용신안申请:도면(附图)必须附上

格式合规

  • 全角【】章节标签,使用韩语章节名(非汉字、非英文)
  • 段落编号【0001】连续,从【기술분야】开始
  • 发明名称:韩语在前+{ENGLISH UPPERCASE}花括号并记
  • 技术术语已并记汉字/英文(반도체(半導體)格式)

权利要求

  • 权项标签【청구항 N】全角括号
  • 从属项开头语제N항에 있어서,正确引用
  • 权项末尾为名词形(~장치, ~방법
  • 多项从属合法性:无"多项的多项"违规
  • 실용신안申请:确认权项仅含物品(无方法、物质权项)

附图与代表图

  • 대표도(代表图)已在申请书中指定,且只填一个图号
  • 图号格式正确(如1b,不写도 1bFig 1b
  • 附图标号与说明书【부호의 설명】一致
  • 附图分辨率≥300 DPI,黑白线条图

程序事项

  • 是否符合优先审查条件(AI、BIO、半导体、中小企业等)
  • PCT进入国家阶段:31/32个月期限已记录
  • 审查请求3年倒计时已设置
  • 外国申请人:已委托韩国登记变理사代理

韩国专利市场的独特性在于:它集中了东亚格式体系的严格规范与西方专利制度的战略思维——变리사群体既重视格式合规,也高度关注专利组合的商业价值。掌握这套体系之后,韩国市场将为国际专利布局提供一个在亚洲三大局(JPO、KIPO、CNIPA)中独具特色的重要支点。

开始使用 CNIPA.AI

立即注册,体验 AI 驱动的专利检索和撰写服务

免费注册