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一种锗氟化过程中氟化氢杂质的去除方法及装置

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

朱海林; 陈义武; 田红安; 王伟; 任先锋; 万晓净; 范晓玉; 刘杰

IPC 分类

B01D 53/04 (2006.01)B01D 53/00 (2006.01)B01D 5/00 (2006.01)B01J 7/00 (2006.01)C01G 17/04 (2006.01)

本发明提供一种锗氟化过程中氟化氢杂质的去除方法及装置,所述方法包括:获取含有氟化氢杂质的氟气气体;对所述含有氟化氢杂质的氟气气体进行吸附处理,去除部分氟化氢杂质,得到初步处理后的氟气气体;将所述初步处理后的氟气气体与锗粉发生反应,得到含有氟化氢杂质的四氟化锗气体;将所述含有氟化氢杂质的四氟化锗气体依次经过冷凝、闪蒸纯化、再冷凝和吸附处理,得到净化后的目标四氟化锗气体,所述目标四氟化锗气体中的氟化氢含量低于预设值。本发明的方案可以高效去除四氟化锗气体中的氟化氢杂质。