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一种双金属氢氧化物材料及其制备方法
发明专利有效
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
王攀; 郭浩然; 李萌萌; 侯东帅; 张悦; 王慕涵; 辛永梅; 刘昂
IPC 分类
C01F 7/784 (2022.01)C01G 9/00 (2006.01)
本发明属于层状双金属氢氧化物制备技术领域,具体涉及一种双金属氢氧化物材料及其制备方法。本发明围绕大尺寸有机阴离子难以插入LDHs层间这一关键技术难题,提出了一种基于静电组装机制的分步插层重构方法,最终可以获得高层间距的双金属氢氧化物材料。通过超声剥离获得高分散度的LDHs纳米片,并引入去质子化处理后的大分子有机阴离子,在静电作用驱动下实现有机分子插层,同时辅以温和的结构重构过程,构建出层间距显著增大的高层间距LDHs材料。与传统共沉淀法或煅烧重构法相比,该方法显著提升了LDHs的层间尺寸,其层间距大于12埃米,甚至达17.4埃米,突破了有机分子尺寸限制对层间结构调控的瓶颈。
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