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噻吩并咪唑类强还原型光催化剂及其合成与应用
发明专利有效
9权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
张曌霞; 江智勇; 杨金月
IPC 分类
C07D 495/04 (2006.01)B01J 31/02 (2006.01)B01J 35/39 (2024.01)C07C 45/65 (2006.01)C07C 49/78 (2006.01)C07C 49/807 (2006.01)C07C 67/317 (2006.01)C07C 69/78 (2006.01)C07C 1/26 (2006.01)C07C 15/24 (2006.01)C07C 41/24 (2006.01)C07C 43/205 (2006.01)C07C 43/20 (2006.01)C07D 215/04 (2006.01)
本发明公开了噻吩并咪唑类强还原型光催化剂及其合成与应用，属于有机化学技术领域。所述噻吩并咪唑类强还原型光催化剂，其化学结构通式为：；以2,5‑二溴‑3,4‑二硝基噻吩和芳基硼酸为原料，经过偶联、还原、缩合/甲基化等三步反应后制备，所得噻吩并咪唑类强还原型光催化剂在还原脱卤反应中，收率良好，底物适用性强。本发明扩展了光催化剂的适用范围，为高效环保脱卤合成提供了新的解决途径。
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