一种低浊度硅氧烷的制备工艺

本发明公开了一种低浊度硅氧烷的制备工艺，按下列步骤进行：S1：将来自上游的水解物硅氧烷送入到一级除氯装置内进行除氯处理，水解物硅氧烷在一级除氯装置的停留时间为10～60min；S2：将除氯处理后的水解物硅氧烷送入到二级除浊装置进行除浊处理，水解物硅氧烷在二级除浊装置的停留时间为10～60min；S3：将除浊处理后的水解物硅氧烷送入到三级除水装置进行除水处理，水解物硅氧烷在三级除水装置的停留时间为10～60min。本发明不仅能够降低了水解物硅氧烷中水分、氯含量以及保障浊度，处理后的水解物中无新杂质引入，且能够有效的降低运行的成本，避免环境污染。