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一种含硅抗反射涂层溶液组合物及其制备方法与应用
发明专利有效
10权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
王艺诺; 江景赞
IPC 分类
C09D 183/04 (2006.01)C09D 7/63 (2018.01)G03F 7/11 (2006.01)
本发明属于光刻技术领域,涉及一种含硅抗反射涂层溶液组合物及其制备方法与应用,所述含硅抗反射涂层溶液组合物包括聚硅氧烷树脂、附着力促进剂、催化剂以及溶剂。本发明不增加额外的工艺步骤,直接在聚硅氧烷树脂溶液中添加相应附着力促进剂,不对Si‑ARC其它性能有较大影响的同时,增强了光刻胶的附着力,同时简化了对树脂设计的要求。
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