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一种立式物理气相沉积设备及其在铜电镀异质结太阳电池中的应用

发明专利有效
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10权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

李佳; 宫元波; 李世岚; 田宏波; 王伟

IPC 分类

C23C 14/34 (2006.01)C23C 14/54 (2006.01)C23C 14/16 (2006.01)C23C 14/50 (2006.01)H10F 71/00 (2025.01)

本发明公开了一种立式物理气相沉积设备及其在铜电镀异质结太阳电池中的应用,涉及异质结太阳电池领域。立式物理气相沉积设备包括腔体以及设置在腔体内的支撑系统、阳极、阳极板、靶材、反向轴承、辐射挡板、布气管、传动滚轮和载板,靶材沿垂直方向设置在腔体内部且能够绕垂直方向进行旋转。立式物理气相沉积设备能够应用于铜电镀异质结技术中的铜种子层工艺,因为是垂直设计,硅片在镀膜过程中为竖直状,所以镀膜过程中硅片不会因为重力影响而发生四角翘曲导致边缘绕度;而且由于竖直镀膜,在整个工艺过程中,避免杂质粉尘落在硅片表面,使铜种子层和TCO表面接触更稳定,从而提升结合力和降低接触电阻,最终提升成品电池良率。