一种钻针涂层及其制备方法

本申请涉及一种钻针涂层及其制备方法，制备方法中：将含钴碳化钨钻针置于涂层机内，抽真空、升温后经氩离子蚀刻；以脉冲偏压加速低功率溅射的碳化钨离子，形成碳化钨层；调整偏压与功率，通入含碳气体形成碳化钨掺杂含氢类金刚石过渡层；关闭碳化钨靶材，通过电磁线圈辅助PECVD制备含氢类金刚石层。本申请采用无金属打底层的梯度涂层结构与工艺协同，适配钻针螺旋状凹槽的不平整表面，解决了含氢类金刚石涂层结合强度不足、传统涂层易脱落及总厚度过大的问题，显著提升钻针钻孔寿命、降低断针率，保障加工精度。