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一种可控的纳米通道及其制备方法与应用

发明专利有效
10权利要求 · 4 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

庄黎伟; 郑顺宜; 王荷婷

IPC 分类

C23C 16/455 (2006.01)C23C 16/02 (2006.01)C23C 16/04 (2006.01)

本发明属于纳米材料制备技术领域,公开了一种可控的纳米通道及其制备方法与应用,具体是基于液相沉积反应器的可控高度纳米通道制备方法及应用。该方法为使用异丙醇、去离子水分别冲洗基底;将基底放入沉积反应器中;选择性沉积,向反应器中通入前驱体溶液对所述基底沉积薄膜。本发明实现纳米通道高度的精准调控,解决传统方法中纳米通道高度控制精度低、工艺复杂、成本高的问题。在高深宽比纳米通道中进行ALD、ALE、MLD实验,通过原位表征测定表面吸附量及反应进度,推测出前驱体的扩散系数与反应速率。

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