返回搜索
档案
蚀刻液组合物
发明专利有效
15权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
车敬雄; 权玳路; 申贤哲; 具受玄; 金荣光; 李相赫; 金龙会
IPC 分类
C23F 1/18 (2006.01)C23F 1/26 (2006.01)C23F 1/02 (2006.01)H10D 86/01 (2026.01)H10P 50/66 (2026.01)
本发明公开蚀刻性能优秀的蚀刻液组合物。根据一实施方式，提供蚀刻液组合物，其包含：过氧化氢5至25重量百分比；有机酸1至5重量百分比；含磷化合物(Phosphorus containing compound)0.001至5重量百分比；二醇系化合物1至5重量百分比；含氮环状化合物(Nitrogen containing cyclic compound)0.001至1重量百分比；具有一个以上的氯原子的临界尺寸偏差(Critical dimension bias)减少剂0.001至5重量百分比；以及氟化合物0.001至5重量百分比。
登录后阅读全文
已显示权利要求 1。免费注册即可阅读全部 15 项权利要求、说明书全文、全部附图、翻译和法律状态。
- 全部权利要求
- 技术领域
- 背景技术
- 发明内容
- 具体实施方式