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一种信号低损耗电解铜箔及其制备方法
发明专利有效
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8权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
唐谊平; 胡敬; 彭光健; 张健力; 陈强; 陈家帆; 陈熙; 杨秀苹
IPC 分类
C25D 1/04 (2006.01)C25D 3/38 (2006.01)
本发明属于铜箔制造技术领域,尤其涉及一种信号低损耗电解铜箔及其制备方法。所述方法包括:配制含有可溶性铜盐和/或导电剂且至少包含有可溶性铜盐的电解液,向电解液中加入织构调节剂A和/或织构调节剂B,采用电沉积法以所配制的电解液在载体辊表面电沉积形成所述信号低损耗电解铜箔。本发明通过简洁的操作能够极为有效且高效地实现电解铜箔的性能优化,大幅度降低电解铜箔的高频信号传输损耗。