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一种导电极阵列掩模及其制造方法
发明专利有效
9权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
张亚辉; 李重
IPC 分类
C25D 1/10 (2006.01)H10W 72/20 (2026.01)
本发明公开了导电极阵列掩模,该阵列掩模包括掩模部分,该掩模部分具有与布置在待安装体中的电极部分的阵列图案相对应的开口部分,并且通过将导电球转移到开口部分来将导电球安装在预定位置,部分突出的突起一体地形成在部分的面向安装的一侧,并且掩模部分由磁性材料形成,突起部分由非磁性材料或金属材料形成,非磁性材料突起部分的形状为圆形、三角形、星形或环形结构,金属突起部分的形状为长方体、正方体或者圆柱体。该阵列掩模容易与待安装体对准,结果,导电球安装在预定位置,因此可以减少缺陷。此外,当导电球被刮板落下时,由于刮板的载荷而不太可能发生挠曲,因此,在每个开口中设置一定量的导电球。
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