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一种多轴驱动的电解质等离子体抛光装置及抛光方法

发明专利有效
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9权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

陈铭德; 陈牧笛; 何兆; 黄阳飞; 周倩倩; 马重夫; 何亮; 王松松

IPC 分类

C25F 7/00 (2006.01)C25F 3/16 (2006.01)

本申请提供了一种多轴驱动的电解质等离子体抛光装置及抛光方法,本方案通过供电系统、伺服传动系统、电解槽、电解液系统及控制系统的协同作用,可以根据三维形状复杂自由曲面的大型工件的几何参数,能够实现旋转和平移协调操作,避免复杂工件在狭窄和薄边上损失精度,从而在不同区域内实现叶片几何尺寸所需的处理质量,得到了高质量、低耗电的工件的表面局部处理;另外,通过采用阴极模块与工件在多个电机的驱动下协调移动,实现阴极模块在局部空间内形成局部等离子体抛光区域,灵活地处理抛光过程,该方法对大型的复杂结构工件的抛光处理精度和处理质量有明显提升效果。

§ Ⅵ

专利附图

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