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一种具有梯度孔径的真空吸盘及其制作方法和应用

发明专利有效
10权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

陈闻杰; 洪于喆; 邓奇勇; 常鑫烽; 许灿军

IPC 分类

F16B 47/00 (2006.01)C04B 35/565 (2006.01)C04B 35/622 (2006.01)C04B 35/638 (2006.01)C04B 38/06 (2006.01)H10P 72/72 (2026.01)

本发明涉及一种具有梯度孔径的真空吸盘及其制备方法和应用,所述真空吸盘包括面向对象吸附方向的表层和远离对象吸附方向的底层,所述真空吸盘为碳化硅材质的多孔陶瓷,且所述表层孔径小,所述底层孔径大,由所述表层至所述底层的孔径逐级递增。本发明通过离心沉积结合碳化硅重结晶烧结的方法形成的真空吸盘具有梯度孔径结构,可以很好地保证了陶瓷内部的梯度孔径结构与通透性,提升了真空吸盘的吸附性能。

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