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X射线显微断层成像系统的掩膜图像重建

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

杨发国; 安德里·安德烈耶夫; 马修·安德鲁

IPC 分类

G06T 17/00 (2006.01)

通过引入图像掩膜或边界框或其它体积掩膜来节省或更好地利用存储器,从而改进迭代重建性能。这些用于减少相对于视场(FOV),甚至可能相对于样本本身的重建体积。