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正极片及电化学装置
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
周世平; 胡本安; 杨建孙
IPC 分类
H01M 4/02 (2006.01)H01M 4/36 (2006.01)H01M 4/62 (2006.01)
本发明提供了一种正极片及电化学装置,正极片包括正极集流体、第一活性物质层、第二活性物质层、第一无机涂层和第一底涂层,第一活性物质层和第二活性物质层分别设置在所述正极集流体的两侧,第一无机涂层、第一底涂层和第一活性物质层位于正极集流体的同一侧,第一无机涂层和第一底涂层均与正极集流体连接;沿正极集流体的长度方向,第一活性物质层、第一无机涂层和第一底涂层依次排布,第二活性物质层的尾端位于第一底涂层的头端和第一底涂层的尾端之间;第一底涂层与正极集流体之间的结合力大于第一无机涂层与正极集流体之间的结合力。该正极片能够降低第一无机涂层从正极集流体上脱落的风险。