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预测电磁系统对照射电磁辐射的响应的方法
发明专利有效
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15权利要求 · 5 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
S·A·哈克; F·阿尔佩贾尼; W·M·J·M·科内
IPC 分类
G03F 7/00 (2006.01)
一种预测电磁系统对来自照射配置的电磁辐射的响应的计算机实现的方法。系统包括位于辐射路径中的像差元件和辐射路径上的物体平面处的与电磁辐射相互作用的物体,像差元件引起对沿着辐射路径透射的电磁辐射的、由像差函数描述的像差。方法包括各种步骤。
发明人
S·A·哈克; F·阿尔佩贾尼; W·M·J·M·科内
IPC 分类
一种预测电磁系统对来自照射配置的电磁辐射的响应的计算机实现的方法。系统包括位于辐射路径中的像差元件和辐射路径上的物体平面处的与电磁辐射相互作用的物体,像差元件引起对沿着辐射路径透射的电磁辐射的、由像差函数描述的像差。方法包括各种步骤。