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一种AIE硅基量子点抗菌涂层及其制备方法和应用

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

白天; 周文昊; 王岚; 李小成; 陈密

IPC 分类

A61L 27/28 (2006.01)A61L 27/34 (2006.01)A61L 27/54 (2006.01)A61L 27/50 (2006.01)

本发明公开了一种AIE硅基量子点抗菌涂层,该AIE硅基量子点抗菌涂层包括AIE硅基量子点,AIE硅基量子点抗菌涂层的厚度为100nm~800nm;本发明还公开了一种AIE硅基量子点抗菌涂层的制备方法和应用。本发明的AIE硅基量子点抗菌涂层,通过将AIE硅基量子点引入抗菌涂层内,利用AIE材料的高效活性氧生成特性,提高抗菌涂层的抗菌效果,以及提高抗菌涂层与骨植入体之间的结合力,适用于制备在骨缺损感染治疗植入物表面。

§ Ⅵ

专利附图

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