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一种黛釉陶瓷及其制备方法

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

方梦琪; 施占杰

IPC 分类

C04B 33/04 (2006.01)C04B 33/13 (2006.01)C04B 41/86 (2006.01)C03C 8/00 (2006.01)

本发明公开了一种黛釉陶瓷,包括胚体以及覆盖在胚体表面的釉层,所述釉层按照质量百分含量计算包括以下各组分:长石55%‑60%、石英5%‑10%、方解石10%‑15%、含铁粘土20%‑25%、氧化锰2%‑3%、氧化钴1%‑2%以及氧化铜1%‑3%;与现有技术相比,铁黄与钴蓝共同形成黑色基底并叠加蓝色调,单纯铁与钴仅呈现普通黑釉,而在铜离子的引入和强氧化气氛作用下,显现出独特的“黛色调”,釉面视觉效果更佳,在美学表现力上满足现代市场的多样化需求。

§ Ⅵ

专利附图

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