返回搜索
档案
电容器结构及其制备方法
发明专利有效
11浏览
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
刘效森; 杨国山; 安彭; 柴国星; 刘洲彤; 周亦康; 董秋立
IPC 分类
H10D 1/68 (2025.01)
本申请公开了一种电容器结构及电容器结构的制备方法。该电容器结构包括：衬底；第1至第m个导电层，m为大于或等于3的整数；各导电层设有通孔组，通孔组包括多个通孔；其中，对于第n导电层、第(n+1)导电层以及第(n+2)导电层，n≥1，(n+2)≤m，第(n+1)导电层的通孔组在第n导电层上的正投影与第n导电层的通孔组间隔设置；第(n+2)导电层的通孔组的多个通孔在第n导电层上的正投影与第n导电层的通孔组的多个通孔一一对应重合。