CNIPA.AI
返回搜索
档案

磁性隧道结及其参考层和SOT-MRAM

发明专利有效
7浏览
10权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

曾定桂; 高扬; 王耀华; 孟凡涛

IPC 分类

H10N 50/10 (2023.01)H10N 50/85 (2023.01)H10B 61/00 (2023.01)

本发明提供一种磁性隧道结及其参考层和SOT‑MRAM,其中磁性隧道结参考层包括:铁磁结构层;铁磁结构层包括至少一个堆叠层单元,堆叠层单元包括第一增强层、基础参考层和第二增强层中的至少两种;第一增强层中含有铁元素,第二增强层中含有钴元素,所述铁磁结构层中的各相邻层间相互铁磁耦合。本发明能够提高磁性隧道结的磁阻率。