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磁性隧道结及其参考层和SOT-MRAM
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
曾定桂; 高扬; 王耀华; 孟凡涛
IPC 分类
H10N 50/10 (2023.01)H10N 50/85 (2023.01)H10B 61/00 (2023.01)
本发明提供一种磁性隧道结及其参考层和SOT‑MRAM,其中磁性隧道结参考层包括:铁磁结构层;铁磁结构层包括至少一个堆叠层单元,堆叠层单元包括第一增强层、基础参考层和第二增强层中的至少两种;第一增强层中含有铁元素,第二增强层中含有钴元素,所述铁磁结构层中的各相邻层间相互铁磁耦合。本发明能够提高磁性隧道结的磁阻率。