返回搜索
档案
用于校准、预测及控制EUV光刻中随机缺陷的方法
发明专利有效
8浏览
20权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
P·悟卡达拉; 张草; A·布罗夫; G·帕尔赛; 高京听; S·G·巴卡利恩; J·克雷克; 白昆伦; C·希金斯; J·S·格雷夫斯; J·J·比亚福尔; M·D·史密斯
IPC 分类
G03F 7/00 (2006.01)G06N 7/01 (2006.01)
接收在工件的检验区域内随机缺陷的初始发生概率。按照所述初始发生概率对所述随机缺陷的全部位置进行排序。确定累积预期缺陷计数且将所述累积预期缺陷计数正规化为总预期缺陷计数的分率。确定用于捕捉高于总随机缺陷的阈值的潜在随机缺陷的缺陷位置的数目。