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一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法、ArF光刻胶组合物及制备方法
发明专利有效
10权利要求 · 4 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
申请人
万华化学集团股份有限公司
发明人
田汝博; 宋微; 韩绍鹏; 杨杰; 王飞; 马吉全
IPC 分类
C08F 232/08 (2006.01)G03F 7/004 (2006.01)C08F 222/06 (2006.01)C08F 216/14 (2006.01)
本发明涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法与含该树脂的光刻胶组合物。所述的ArF光刻胶成膜树脂由降冰片烯类单体、马来酸酐和全氟正丙基乙烯基醚按60～75mol％：20～35mol％：5～10mol％的比例共聚制得。所述的制备方法包括以下步骤：溶解、加热聚合、纯化、烘干。所述ArF光刻胶组合物包括：ArF光刻胶成膜树脂、碱性添加剂、光致产酸剂、有机溶剂，具体制备方法包括以下步骤：按配比，在氮气氛围下将ArF光刻胶成膜树脂、碱性添加剂、光致产酸剂、有机溶剂避光混合均匀，得到ArF光刻胶组合物。本发明得到的ArF光刻胶组合物具有分辨率高与耐蚀性能良好的特点。