一种辅助成膜装置及成膜系统

本发明实施例提供一种辅助成膜装置及成膜系统，辅助成膜装置包括真空腔体和辅助成膜结构；真空腔体的表面包括第一面、第二面和侧面；辅助成膜结构包括：第一等离子体源组件位于侧面上；第一等离子体源组件包括第一电极构件和第一连接部，所述第一电极构件包括第一极板和第一电极；第一极板包括轰击侧和非轰击侧，第一连接部位于非轰击侧的一侧，第一电极位于第一连接部和第一极板之间；气路组件用于向第一等离子体源组件的轰击侧提供气体，将气体放电形成的至少部分离子传输至基板处。通过设置第一等离子体源组件，并且第一等离子体源组件中设置的第一电极构件可以提升辅助成膜装置在对基板进行部分离子沉积时的均匀性。