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用于电子制造系统的腔室的远程等离子体清洁
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
郭渊泓; 郭晟; 马雷克·拉德科; 史蒂芬·桑索尼; 袁小雄; 潘思瑛; 村山祐二; 勾平平; 徐松文
IPC 分类
H01J 37/32 (2006.01)
一种清洁用于电子制造系统的腔室的方法包括使包含氧气和载气的气体混合物流入远程等离子体产生器中。方法进一步包括通过远程等离子体产生器由气体混合物产生等离子体并且通过使等离子体流入腔室的内部体积中来执行腔室的远程等离子体清洁，其中等离子体从腔室移除复数种有机污染物。