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干电极和干电极的制造方法
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
金铉祐
IPC 分类
H01M 4/13 (2010.01)H01M 4/139 (2010.01)H01M 4/04 (2006.01)
提供了干电极和制造干电极的方法。干电极包括:第一复合层,包括活性物质;以及基板层,在第一复合层的至少第一表面上。制造干电极的方法包括:干法形成包括活性物质的第一复合层;以及在第一复合层的至少第一表面上沉积基板层。