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用于产生等离子体的装置
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
严世勋; 李润星; 孙永勋; 朴世洪
IPC 分类
H05H 1/24 (2006.01)
本发明提供一种用于产生等离子体的装置,所述装置包括:腔室,被配置成为等离子体提供产生空间;天线模块,与腔室相邻地放置且被配置成连接至第一电源并在腔室中产生感应电场;电极,与腔室相邻地放置且被配置成连接至第二电源并辅助产生等离子体;传感器,被配置成获得与等离子体的状况相关的感测信息;以及控制器,被配置成控制第一电源及第二电源。