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用于制造全向结构色多层结构的原子层沉积方法
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
吴松涛; 德巴西什·班纳吉; 张敏娟
IPC 分类
C23C 16/06 (2006.01)C23C 16/30 (2006.01)C23C 16/34 (2006.01)C23C 16/40 (2006.01)C23C 16/44 (2006.01)C23C 16/455 (2006.01)G02B 5/28 (2006.01)C09C 1/00 (2006.01)
通过原子层沉积（ALD）形成反射全向结构色的多层结构的方法包括将至少一种反射芯颗粒引入到反应室中，并在介电层ALD循环中沉积包封至少一种反射芯颗粒的共形介电层。随后，在阻挡层ALD循环中沉积包封共形介电层的共形阻挡层，以及在吸收层ALD循环中沉积包封共形阻挡层的共形吸收层。