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一种多羟基无规共聚物及其制备方法和应用
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
文韬; 刘硕; 董学会; 周长见; 蒋盛
IPC 分类
C08F 212/08 (2006.01)C08F 220/14 (2006.01)C08F 220/20 (2006.01)C08F 220/32 (2006.01)H10P 76/20 (2026.01)G03F 7/16 (2006.01)G03F 7/00 (2006.01)
本发明公开了一种多羟基无规共聚物及其制备方法和应用。本发明的多羟基无规共聚物包含苯乙烯单元、甲基丙烯酸甲酯单元和单元,单元中的R为‑H或‑CH,R为、、、或。本发明的多羟基无规共聚物具有合成简单、适用于多种基底的修饰、修饰效果好、用于基底修饰无需长时间退火等优点,由其形成的修饰层与功能涂层的界面相容性好,从而可以使形成的纳米结构的缺陷率大幅降低,可以广泛应用于半导体器件、光学涂层和纳米压印等领域的高精度纳米图案化。