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一种基于MPA和APTES协同修饰改性的叉指电极及其制备方法和应用
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
程佳吉; 张志涛; 雷茜; 饶磊; 王锐; 周宾倩; 李以文; 潘瑞琨; 郝俊杰
IPC 分类
G01N 27/30 (2006.01)G01N 27/48 (2006.01)
本发明提供一种基于MPA和APTES协同修饰改性的叉指电极及其制备方法和应用,所述基于MPA和APTES协同修饰改性的叉指电极包括依次层叠设置的叉指电极基板、修饰改性层和量子点层;所述修饰改性层中包括巯基丙酸和3‑氨丙基三乙氧基硅烷。本发明提供的叉指电极,通过MPA和APTES的协同作用,可实现量子点层的牢固固定、界面阻抗显著降低。