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抗蚀剂组成物及图案形成方法

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

菊地骏; 草间理志; 大山皓介; 大桥正树

IPC 分类

G03F 7/004 (2006.01)

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中,感度及极限分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物,以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物,含有:超原子价碘化合物,为下式(1)~(4)中的任一者表示的至少1种,含羧基的聚合物,及溶剂;该含羧基的聚合物含有下式(5)表示的重复单元与选自下式(6)表示的重复单元、下式(7)表示的重复单元、下式(8)表示的重复单元、下式(9)表示的重复单元及下式(10)表示的重复单元中的至少1种。