一种磁极机构以及磁控溅射装置

本发明公开了一种磁极机构以及磁控溅射装置，涉及半导体技术领域。该磁极机构包括基台、驱动组件、转动杆、芯轴、安装圆板、传动组件和活动磁块。转动杆可转动地安装于基台，且穿过基台设置，转动杆的一端与驱动组件连接，另一端与安装圆板连接，转动杆的中部沿其轴向设置有中空空腔，芯轴穿过中空空腔设置，且与转动杆转动配合，芯轴通过传动组件与活动磁块连接，活动磁块可滑动地安装于安装圆板，芯轴用于受驱相对于转动杆转动，以通过传动组件带动活动磁块沿安装圆板的径向滑动，从而调节活动磁块与安装圆板的相对位置。本发明提供的磁极机构能够实现磁场分布的快速调节，提高溅射镀膜的均匀性，保证产品质量。