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半导体器件及其制造方法、电子设备
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
邓学建; 李玉科; 王桂磊
IPC 分类
H10B 41/40 (2023.01)H10B 41/10 (2023.01)
本申请提供了一种半导体器件及其制造方法、电子设备。该半导体器件,包括:衬底、第一电容结构、第二电容结构和导电柱组件。第一电容结构和第二电容结构分别设置于衬底两面,第一电容结构和第二电容结构均至少部分埋入于衬底内。导电柱组件贯穿衬底,两端分别与第一电容结构、第二电容结构电连接,使得第一电容结构与第二电容结构并联。本申请实施例可有效提高半导体器件的性能。