半导体工艺控制方法及控制装置

本发明提供了一种半导体工艺控制方法及控制装置，在一个工艺周期内，反应物分成多次通入流通器件进行反应，并在每次反应后自所述流通器件输出，其中，相邻两次所述反应之间所述流通器件处于间歇状态，由此可以减少所述流通器件每次的间歇时间，从而能够避免反应物在流通器件内累积，避免了反应物滞留而堵塞流通器件的问题。