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用于分析电极表面的方法和系统
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
具材珍; 权纯瑍
IPC 分类
G01N 21/88 (2006.01)G01N 21/94 (2006.01)G01N 21/25 (2006.01)H01M 4/04 (2006.01)
本公开涉及一种用于分析电极表面的方法和系统,并且更具体地涉及一种能够使用高光谱CCD精确地分析在电极制造过程期间残留在电极表面上的异物以提高过程效率和产品可靠性的用于分析电极表面的方法和系统。