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空隙层、空隙层的制造方法、层叠体、光学构件、及光学装置
发明专利有效
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15权利要求 · 8 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
佐藤启介; 服部大辅
IPC 分类
G02B 1/10 (2006.01)B32B 7/023 (2006.01)B32B 27/00 (2006.01)C08G 77/04 (2006.01)C08J 9/35 (2006.01)H10K 50/856 (2006.01)H10K 50/86 (2006.01)H10K 59/10 (2006.01)
本公开提供低折射率且机械强度优异的空隙层。本公开的空隙层(11)为凝胶状硅化合物的粉碎物以化学方式结合而成的空隙层，上述凝胶状硅化合物是硅烷化合物发生缩合或部分缩合而成的化合物，作为上述硅烷化合物，包含1~3官能硅烷化合物及4官能硅烷化合物，空隙层(11)的折射率为1.30以下。