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一种真空闪蒸成膜装置

发明专利未知
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

请求不公布姓名; 请求不公布姓名; 请求不公布姓名

申请日

Aug 4, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

B01D 1/24 (2006.01)B01D 3/06 (2006.01)B01D 3/10 (2006.01)

本发明公开了真空闪蒸成膜装置,包括箱体、抽气组件、挡板;箱体内部形成有用于容纳基板的容纳腔室;抽气组件设置于所述箱体的上方并与所述箱体连接,所述抽气组件用于抽取所述容纳腔室内的气体;挡板围设于所述基板的安装位置的外周,所述挡板的最高端高于所述基板,所述挡板沿水平方向阻挡所述容纳腔室的边缘位置与所述基板的安装位置。本发明的真空闪蒸成膜装置用于降低箱体内气体流速差异对基板上液膜的干燥效果的影响,提高液膜各处干燥结晶的一致性。