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一种基于自磨保护料层的工业硅低铁制粉方法

发明专利未知
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9权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

李文超; 辛贵全

申请日

Sep 9, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

B02C 17/10 (2006.01)B02C 17/18 (2006.01)C01B 33/02 (2006.01)

本申请公开了一种基于自磨保护料层的工业硅低铁制粉方法。从待制粉工业硅中分离预定粗粒级的同批工业硅粗粒,在连续制粉前循环粉磨,使其在粉磨区内物料与金属部件的接触区域循环分布并形成自磨保护料层;启动阶段单独收集工业硅粉并检测相对同批原料的铁含量增量,满足控制要求后转入连续制粉。连续制粉时对出磨物料进行分级,并利用预定粗粒级工业硅返料持续更新自磨保护料层;通过监测该粒级返料量,在返料连续下降时切换单独收集并检测铁含量增量,根据检测结果保持隔离至返料恢复,或者提高预定粗粒级工业硅在入磨物料中的比例以重建自磨保护料层,从而降低连续制粉过程中的附加增铁和异常粉体混入正常产品的风险。