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基于真空输料双槽清洗的大豆清洗装置
发明专利未知
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
孙家丽; 谢燕英; 宋冬茂; 何国健; 赖裕香; 叶宝丹; 彭俊科; 何华萍; 李泽生; 杨乃斌; 张丽
申请日
Aug 14, 2026
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
B08B 3/10 (2006.01)B08B 3/04 (2006.01)B08B 3/02 (2006.01)B08B 3/14 (2006.01)B03C 1/10 (2006.01)
本发明公开一种基于真空输料双槽清洗的大豆清洗装置,包括真空输料机构、一级除铁组件、粗洗槽、第二除铁组件、精洗集水槽组件、绞龙提升机和离心脱水筛组件,能够依托双槽分级清洗配合两级除铁工艺,在大豆输送清洗流程中逐步去除原料里混杂的铁屑杂质、泥土浮尘、空瘪虫蛀料,解决了传统大豆清洗装置除杂不彻底、硬质铁屑易磨损设备的问题,有效提升了大豆清洗的洁净度与加工效率。
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