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一种预氧化-气相氮掺杂制备高比表面积多孔碳的方法

发明专利未知
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

赵依伦; 孙畅; 李晨晨; 郭浩; 吴佳辰; 刘永家

申请日

Jul 13, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

C01B 32/05 (2017.01)

本申请涉及碳材料改性技术领域,尤其涉及一种预氧化‑气相氮掺杂制备高比表面积多孔碳的方法,包括步骤一,预氧化:将预碳化多孔碳粉料置于CVD管式炉中,在惰性气氛下以第一升温速率升温至第一保温温度后,于含氧气氛中预氧化保温一段时间;步骤二,气相氮掺杂:将预氧化后的碳材料切换至惰性气氛中以第二升温速率升温至第二保温温度后,通入含氮气体进行氮掺杂保温处理,处理结束后再次切换为惰性气氛进行自然降温。本发明通过预氧化引入的含氧官能团和微孔结构为后续氨气掺杂提供了充足的活性位点和吸附位点,使氮掺杂效率显著提升;同时,预氧化的可控刻蚀与二段氨气的活化造孔功能相辅相成,可大幅度提升多孔碳比表面积以及孔体积。

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