一种用于闪光干粒的抛釉及其制备方法

本发明提供了一种用于闪光干粒的抛釉及其制备方法，属于陶瓷釉料技术领域。所述抛釉包括以下质量份的原料：钾长石22～30份、石英10～16份、高岭土5～9份、硅灰石5～9份、烧滑石3～7份、碳酸钡5～9份、碳酸锶2～5份、氧化锌4～7份、锂辉石4～8份、高透熔块15～25份、改性莫来石晶须2～6份、氧化剂0.5～2份；其中，所述改性莫来石晶须为表面包覆纳米氧化锆的莫来石晶须。本发明的抛釉兼顾通透闪光效果、耐磨性与防污性，制备方法简单，适合工业化生产应用。