CNIPA.AI
返回搜索
档案

退镀剂用组合物、一种退镀方法

发明专利未知
8浏览
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

钟伟春; 吴星; 谢智锋; 孙志恒; 杨政奇

申请日

Aug 25, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

C03C 23/00 (2006.01)

本发明涉及镀层退镀技术领域,公开了退镀剂用组合物、一种退镀方法。该组合物中含有退镀组分和玻璃保护组分;所述玻璃保护组分包括第一保护剂和第二保护剂;所述第一保护剂为氮桥联多烷氧基硅烷;所述第二保护剂为烷醇胺硼酸酯。本发明提供的退镀剂用组合物解决了单一硅烷保护剂(如KH‑550)膜层存在缺陷、防护不彻底的通病,为高附加值微晶玻璃产品的加工降本增效提供了全新技术路径。