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一种高疏水性吩噻嗪光敏剂及其制备方法和应用
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
张敏; 彭淑新; 杨晨晓; 魏鹏
申请日
Jul 22, 2026
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
C07D 279/18 (2006.01)C09K 11/06 (2006.01)G01N 21/64 (2006.01)
本发明提供了一种高疏水性吩噻嗪光敏剂及其制备方法和应用,属于精细化工技术领域,光敏剂以吩噻嗪阳离子染料骨架为核心,在3,7位二乙醇胺取代侧链末端四个羟基均经5‑苯基戊酸酯化形成盐类化合物。通过在母核外围引入四条含芳香基团的柔性酯化侧链,该结构修饰可使化合物相较四羟基封端中间体的计算辛醇/水分配系数(cLogP)显著提升,形成高疏水性分子结构,从而增强其在有机介质中的溶解性、分散稳定性和溶剂适配性。该化合物可在二甲亚砜、甲醇、乙醇、乙腈和二氯甲烷等有机溶剂中使用,表现出近红外吸收和发射特性,并可在红光照射下产生单线态氧,适用于有机相光氧化反应及荧光成像或荧光示踪。