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一种BNH和BNH比例可控的聚硼硅氮烷前驱体及其合成方法与应用
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
IPC 分类
C07F 7/10 (2006.01)C08G 79/08 (2006.01)C09D 185/04 (2006.01)
本发明涉及一种BNH和BNH比例可控的聚硼硅氮烷前驱体及其合成方法与应用,属于新材料技术领域,用以解决现有方法中BNH和BNH的比例无法控制,从而制备的耐高温涂层的柔韧性差、波动性大等问题中至少一个。本发明聚硼硅氮烷前驱体的合成方法是分步实现不同结构单元的制备,通过控制每一步合成原料的比例和反应条件实现每种结构的定量控制,步骤(1)合成的环状结构为BNH结构,步骤(3)中的三氯化硼首先和步骤(2)中的含硅的结构单元反应,使得B以BNH结构存在,再与二硅氮烷反应,从而避免了三氯化硼单独和二硅氮烷反应形成BNH的结构,本发明的方法采用分步法,通过控制各步骤中原料的配比以及条件制备的聚硼硅氮烷前驱体中的BNH和BNH比例可控。
§ Ⅵ
专利附图
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