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一种光刻胶树脂、制备方法及其应用

发明专利未知
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10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

蒋志强; 马吉全; 杨述瑞

申请日

Apr 7, 2025

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

C08F 220/28 (2006.01)C08F 220/18 (2006.01)G03F 7/004 (2006.01)G03F 7/039 (2006.01)

本发明公开了一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶,所述光刻胶树脂具有式(I)所示的结构通式,其可通过丙烯酸酯,甲基丙烯酸酯类化合物通过Pd(II)催化剂聚合得到。本发明制备的光刻胶树脂具有分子量可控、分子量分布较窄的特点;含有该聚合物树脂的光刻胶可以明显改善刻蚀边界不清晰,线宽粗糙度较大的问题,满足更高的光刻要求。