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含氟树脂聚合物及其制备方法、化学放大型光刻胶及其制备方法
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
IPC 分类
C08F 220/28 (2006.01)C08F 220/24 (2006.01)C08F 220/18 (2006.01)C08F 220/20 (2006.01)G03F 7/004 (2006.01)
本发明涉及浸没式ArF光刻胶技术领域,公开了一种含氟树脂聚合物及其制备方法、化学放大型光刻胶及其制备方法。含氟聚合物树脂,包括第一重复单元、第二重复单元和第三重复单元;所述第一重复单元为羟基被保护的六氟异丙醇结构,所述第二重复单元为含酸可脱保护脂肪环结构,第三重复单元为含内脂结构。化学放大型光刻胶包括上述的含氟树脂聚合物。本发明的含氟聚合物树脂包括羟基被保护的六氟异丙醇结构的重复单元,用于浸没式ArF化学放大型光刻胶中,具有良好疏水性,能有效抑制光致产酸剂在曝光过程中向浸没液体中的析出;进一步的,其在光刻工艺过程中显影完全,形成的光刻图案无桥连缺陷。
§ Ⅵ
专利附图
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