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喷射装置、具有喷射装置的沉积装置以及电子装置

发明专利未知
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

李钟奫; 郑盛优; 鲁硕原

申请日

Apr 3, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

C23C 14/24 (2006.01)C23C 14/04 (2006.01)H10K 71/16 (2023.01)H10K 59/12 (2023.01)

公开喷射装置、具有喷射装置的沉积装置以及电子装置。该喷射装置包括:坩埚,被配置以容纳沉积材料;装置框架,在所述坩埚上;喷嘴,在所述装置框架中并且被配置以在朝向基板的方向上喷射所述沉积材料;以及回收单元,在所述装置框架中并且被配置以回收在除朝向所述基板的所述方向以外的方向上飞溅的所述沉积材料。