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一种碳化硅涂层及其制备方法

发明专利未知
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10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

周海斌; 俞泽新; 卢彬

申请日

Sep 2, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

C23C 18/12 (2006.01)

本发明涉及一种碳化硅涂层及其制备方法,属于涂层技术领域。本发明采用溶液前驱体等离子喷涂工艺于基材表面沉积碳化硅涂层,该工艺仅对飞行阶段的前驱体液滴进行瞬时加热,待液滴内溶剂充分挥发后,依靠液滴撞击基体瞬间发生液相分解与沉积,强化涂层与基体间的机械嵌合咬合效果,实现低温、高效的涂层沉积;同时通过复配并优化氩气、氮气、氢气、氦气的气体流量,并匹配适宜喷涂距离,能够显著提升碳化硅涂层的致密性、显微硬度以及涂层与基体的界面结合强度。