返回搜索
档案
电解阴极及其制备方法、多孔集流体制备装置
发明专利未知
10权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
王永乐; 吴佳成; 郑拓; 李迪武; 汪晓黎
申请日
Apr 3, 2025
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
C25D 1/04 (2006.01)H01M 4/80 (2006.01)C25D 17/12 (2006.01)
本申请提供了一种电解阴极及其制备方法、多孔集流体制备装置,电解阴极的制备方法包括以下步骤:在电极基体的表面形成具有图形化区的掩膜层;对形成有掩膜层的电极基体进行刻蚀,以在电极基体对应图形化区的位置形成刻蚀孔;在刻蚀孔中填充绝缘材料;去除掩膜层,得到电解阴极。该电解阴极的制备方法制备的电解阴极表面的绝缘区域不易被破坏、电解阴极的表面质量较好,有利于提高多孔集流体的生产效率和质量。
登录后阅读全文
已显示权利要求 1。免费注册即可阅读全部 10 项权利要求、说明书全文、全部附图、翻译和法律状态。
- 全部权利要求
- 技术领域
- 背景技术
- 发明内容
- 附图说明
- 具体实施方式