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一种用于高分辨α谱铀同位素测量样品制备的直线型电极电镀池及电镀方法

发明专利未知
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10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

初剑; 张楠; 周佳; 黄怿洋; 唐应兵; 孔令钦; 刘大孝

申请日

Jun 26, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

C25D 17/02 (2006.01)C25D 17/10 (2006.01)C25D 21/12 (2006.01)C25D 21/14 (2006.01)

本申请公开了一种用于高分辨α谱铀同位素测量样品制备的直线型电极电镀池及电镀方法,属于铀同位素测量技术领域。所述电镀池包括由下至上同轴设置的下底、镀片、镀池和阳极,镀片为圆形阴极载体,有效电沉积区域为直径5mm的圆形区域。所述电镀方法包括:经样品硝酸与硫酸钠预处理,采用硫酸铵缓冲溶液,优选铀上样量≤10μg、0.15A恒流电镀2h,电镀终点添加氨水稳固镀层。本申请保留了直线型电极结构简单、易标准化量产的优点,可抑制电镀边缘效应、减小α自吸收;以4μg天然铀制源时,铀‑238能峰半峰宽低于10keV、标准差1.9keV,铀‑238/铀‑234活度比1.04、标准差0.05,能清晰分辨铀‑234、铀‑235、铀‑238邻近能峰,大幅提升铀同位素α谱测量精度与准确度。

§ Ⅵ

专利附图

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